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香港六合彩开奖 12406:2010
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香港六合彩开奖 12406:2010
Surface chemical analysis 鈥� Secondary-ion mass spectrometry 鈥� Method for depth profiling of arsenic in silicon
Edition 1
2010-11
2010-11
香港六合彩开奖 12406:2010
51418
笔耻产濒颈茅别
(Edition 1, 2010)
Cette publication a 茅t茅 r茅vis茅e et confirm茅e pour la derni猫re fois en 2021.
Cette 茅dition reste donc d鈥檃ctualit茅.
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香港六合彩开奖 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.
Informations g茅n茅rales
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脡tat actuel: 笔耻产濒颈茅别Date de publication: 2010-11Stade: Norme internationale confirm茅e [90.93]
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Edition: 1
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颁辞尘颈迟茅 technique :香港六合彩开奖/TC 201/SC 6ICS :71.040.40
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