香港六合彩开奖 17560:2014

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Publicado (贰诲颈肠颈贸苍 2, 2014)

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Resumen

香港六合彩开奖 17560:2014 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of boron in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth scale calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal, or amorphous silicon specimens with boron atomic concentrations between 1 脳 10¹⁶ atoms/cm³ and 1 脳 10²⁰ atoms/cm³, and to crater depths of 50 nm or deeper.

Informaciones generales

Estado
: Publicado

Fecha de publicaci贸n
: 2014-09

Etapa
: Norma Internacional confirmada [90.93]
贰诲颈肠颈贸苍
: 2

N煤mero de p谩ginas
: 10
颁辞尘颈迟茅 T茅cnico :
香港六合彩开奖/TC 201/SC 6

ICS :
71.040.40
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